ALD-mottagare

VeTek Semiconductor är en professionell tillverkare av ALD Susceptor, CVD SiC-beläggning, CVD TAC COATING grafitbas i Kina. Vetek Semiconductor utvecklade och producerade tillsammans med tillverkare av ALD-system SiC-belagda ALD-planetbaser för att möta de höga kraven i ALD-processen och jämnt fördela luftflödet på substratet. Vi ser fram emot ytterligare samarbete med dig.

Skicka förfrågan

Produktbeskrivning

Som proffsALD-mottagaretillverkare i Kina, vår produktALD-mottagares exakta temperaturkontroll, enhetliga gasfördelning och utmärkta värmeledningsförmåga och andra produktegenskaper avgör detALD-mottagarespelar en avgörande roll i atomskiktsavsättningsprocessen (ALD). Viktig roll, välkomna din konsultation.

Enhetlig tunnfilmsavsättning:ALD Susceptor säkerställer enhetlig avsättning av atomskikt över hela skivans yta under atomskiktsavsättningsprocessen (ALD). Dess unika roterande design gör att gaser och reaktanter kan komma i jämn kontakt med skivans yta, vilket resulterar i en jämn filmtjocklek. Detta är avgörande för högprecisionshalvledartillverkning.

Förbättra avsättningskvaliteten: Genom att optimera temperaturkontroll och gasfördelning, förbättrar ALD Susceptor avsevärt filmkvalitet och prestanda, vilket minskar defekter och ojämnhet. Detta gör den idealisk för högprecisionstillverkning av halvledare och elektroniska enheter, vilket säkerställer produktens tillförlitlighet och prestanda.

Stöder multi-wafer-bearbetning: Vissa ALD Susceptor-designer tillåter att flera wafers bearbetas samtidigt, vilket ökar produktionseffektiviteten. Detta är särskilt viktigt för tillverkningsmiljöer med hög genomströmning, som kan möta behoven för storskalig produktion.

Rymmer olika storlekar och typer av wafers:ALD-susceptorer är generellt utformade för hög kompatibilitet och kan stödja olika storlekar och typer av wafers. Detta gör den effektiv i en mängd olika produktionsprocesser, vilket ger större flexibilitet och anpassningsförmåga.

Minska produktionskostnaderna:På grund av sin effektiva gasdistribution och enhetliga uppvärmningsförmåga, ökar ALD Susceptor effektiviteten i deponeringsprocessen och minskar därigenom materialspill och produktionskostnader. Detta bidrar inte bara till att förbättra produktionseffektiviteten utan minskar också avsevärt tillverkningskostnaderna.

Grundläggande fysikaliska egenskaper för CVD SiC-beläggning: