Porös keramisk vakuumchuck

Vetek Semiconductor är en kinesisk tillverkare av porös keramisk vakuumchuck, som används för att fixera och hålla kvar kiselskivor eller andra substrat genom vakuumadsorption för att säkerställa att dessa material inte kommer att förskjutas eller skeva under bearbetningen. Vetek Semiconducto kan tillhandahålla porösa keramiska vakuumchuckprodukter med hög renhet med hög kostnadsprestanda. Välkommen att höra av dig.

Vetek Semiconductor erbjuder en serie utmärkta porösa keramiska vakuumchuckprodukter, speciellt designade för att möta de stränga kraven för modern halvledartillverkning. Dessa bärare visar utmärkta prestanda i renhet, planhet och anpassningsbar gasvägskonfiguration.

Oöverträffad renlighet:

Eliminering av föroreningar: Varje porös keramisk vakuumchuck sintras vid 1200°C i 1,5 timme för att helt ta bort orenheter och säkerställa att ytan är så ren som ny.

Vakuumförpackning: För att behålla det rena tillståndet är den porösa keramiska vakuumchucken vakuumförpackad för att förhindra kontaminering under lagring och transport.

Utmärkt planhet:

Fast wafer-adsorption: Den porösa keramiska vakuumchucken upprätthåller en adsorptionskraft på -60kPa respektive -70kPa före respektive efter waferplacering, vilket säkerställer att wafern är ordentligt adsorberad och förhindrar att den faller av under höghastighetsöverföring.

Precisionsbearbetning: Baksidan av hållaren är precisionsbearbetad för att säkerställa en helt plan yta, vilket bibehåller en stabil vakuumtätning och förhindrar läckage.

Anpassad design:

Kundcentrerad: Vetek Semiconductor arbetar nära kunderna för att designa gasvägskonfigurationer som uppfyller deras specifika processkrav för att optimera effektivitet och prestanda.

Strikt kvalitetstestning:

Vetek genomför omfattande tester på varje del av Porous SiC Vacuum Chuck för att säkerställa dess kvalitet:

Oxidationstest: SiC-vakuumchucken värms snabbt upp till 900°C i en syrefri miljö för att simulera den faktiska oxidationsprocessen. Innan detta glödgas bäraren vid 1100°C för att säkerställa optimal prestanda.

Test av metallrester: För att förhindra kontaminering värms bäraren till en hög temperatur på 1200°C för att upptäcka om det finns några metallföroreningar utfällda.

Vakuumtest: Genom att mäta tryckskillnaden mellan den porösa SiC-vakuumchucken med och utan wafer, testas dess vakuumförseglingsprestanda strikt. Tryckskillnaden måste kontrolleras inom ±2kPa.

Tabell med egenskaper för porös keramisk vakuumchuck:

VeTek Semiconductor Porous SiC Vacuum Chuck butiker: