Produkter

View as

CVD SiC-belagd kjol

VeTek Semiconductor är en ledande tillverkare, innovatör och ledare av CVD SiC Coating och TAC Coating i Kina. Under många år har vi fokuserat på olika CVD SiC-beläggningsprodukter såsom CVD SiC-belagd kjol, CVD SiC-beläggningsring, CVD SiC-beläggningsbärare, etc. VeTek Semiconductor stödjer kundanpassade produkttjänster och tillfredsställande produktpriser, och ser fram emot din fortsatta samråd.

Läs mer Skicka förfrågan

CVD TaC Coating Carrier

VeTek Semiconductors CVD TaC Coating-bärare är huvudsakligen designad för den epitaxiella processen vid tillverkning av halvledarprodukter. CVD TaC Coating-bärarens ultrahöga smältpunkt, utmärkta korrosionsbeständighet och enastående termisk stabilitet avgör denna produkts oumbärlighet i halvledarepitaxialprocesser. Vi hoppas verkligen kunna bygga en långsiktig affärsrelation med dig.

Läs mer Skicka förfrågan

CVD SiC Coating Baffel

Vetek Semiconductors CVD SiC Coating Baffle används huvudsakligen i Si Epitaxi. Det används vanligtvis med kiselförlängningsfat. Den kombinerar den unika höga temperaturen och stabiliteten hos CVD SiC Coating Baffle, vilket avsevärt förbättrar den enhetliga fördelningen av luftflödet vid halvledartillverkning. Vi tror att våra produkter kan ge dig avancerad teknologi och högkvalitativa produktlösningar.

Läs mer Skicka förfrågan

CVD SiC grafitcylinder

Vetek Semiconductors CVD SiC grafitcylinder är central i halvledarutrustning och fungerar som en skyddande sköld i reaktorer för att skydda interna komponenter i hög temperatur och tryck. Det skyddar effektivt mot kemikalier och extrem värme och bevarar utrustningens integritet. Med exceptionell slitage- och korrosionsbeständighet säkerställer den lång livslängd och stabilitet i utmanande miljöer. Att använda dessa höljen förbättrar halvledarenhetens prestanda, förlänger livslängden och minskar underhållskrav och skaderisker. Välkommen att fråga oss.

Läs mer Skicka förfrågan

CVD SiC beläggningsmunstycke

Vetek Semiconductors CVD SiC-beläggningsmunstycken är avgörande komponenter som används i LPE SiC-epitaxiprocessen för avsättning av kiselkarbidmaterial under halvledartillverkning. Dessa munstycken är vanligtvis gjorda av högtemperatur och kemiskt stabilt kiselkarbidmaterial för att säkerställa stabilitet i tuffa bearbetningsmiljöer. Designade för enhetlig deponering spelar de en nyckelroll i att kontrollera kvaliteten och enhetligheten hos epitaxiella skikt som odlas i halvledarapplikationer. Ser fram emot att etablera ett långsiktigt samarbete med dig.

Läs mer Skicka förfrågan

CVD SiC beläggningsskydd

Vetek Semiconductor tillhandahåller CVD SiC-beläggningsskydd som används är LPE SiC-epitaxi. Termen "LPE" hänvisar vanligtvis till lågtrycksepitaxi (LPE) i lågtryckskemisk ångdeposition (LPCVD). Inom halvledartillverkning är LPE en viktig processteknik för att odla tunna enkristallfilmer, som ofta används för att odla epitaxiella kiselskikt eller andra epitaxiella halvledarskikt. Tveka inte att kontakta oss för fler frågor.

Läs mer Skicka förfrågan

<...3 4 5 6 7 >