Hem > Produkter > Silikonkarbidbeläggning > Solid kiselkarbid > Solid SiC Etsning Fokusring
Solid SiC Etsning Fokusring
  • Solid SiC Etsning FokusringSolid SiC Etsning Fokusring
  • Solid SiC Etsning FokusringSolid SiC Etsning Fokusring
  • Solid SiC Etsning FokusringSolid SiC Etsning Fokusring

Solid SiC Etsning Fokusring

VeTek Semiconductor är en ledande Solid SiC Etching Focusing Ring-tillverkare och innovatör i Kina. Vi har varit specialiserade på SiC-material i många år. Solid SiC har valts som ett fokuserande ringmaterial på grund av dess utmärkta termokemiska stabilitet, höga mekaniska hållfasthet och motståndskraft mot plasma erosion.Vi ser fram emot att bli din långsiktiga partner i Kina.

Skicka förfrågan

Produktbeskrivning

Du kan vara säker på att köpa Solid SiC Etching Focusing Ring från vår fabrik. VeTek Semiconductors revolutionerande teknologi möjliggör produktion av Solid SiC Etching Focusing Ring, ett material av ultrahög renhet av kiselkarbid som skapats genom processen med kemisk ångavsättning.

Solid SiC etsningsfokuseringsring används i halvledartillverkningsprocesser, särskilt i plasmaetsningssystem. Den solida SiC-etsningsfokuseringsringen är en avgörande komponent som hjälper till att uppnå exakt och kontrollerad etsning av kiselkarbidskivor (SiC).


Under plasmaetsningsprocessen spelar fokusringen flera roller:

1. Fokusering av plasman: Den solida SiC-etsningsfokuseringsringen hjälper till att forma och koncentrera plasman runt wafern, vilket säkerställer att etsningsprocessen sker enhetligt och effektivt. Det hjälper till att begränsa plasman till det önskade området, vilket förhindrar lösetsning eller skador på de omgivande områdena.

2. Skydd av kammarväggarna: Fokusringen fungerar som en barriär mellan plasman och kammarväggarna och förhindrar direkt kontakt och potentiell skada. SiC är mycket motståndskraftig mot plasmaerosion och ger utmärkt skydd för kammarväggarna.

3. Temperaturkontroll: Fokusringen hjälper till att upprätthålla en jämn temperaturfördelning över skivan under etsningsprocessen. Det hjälper till att avleda värme och förhindrar lokal överhettning eller termiska gradienter som kan påverka etsningsresultaten.

Solid SiC är vald för fokusringar på grund av dess enastående termiska och kemiska stabilitet, höga mekaniska hållfasthet och motståndskraft mot plasmaerosion. Dessa egenskaper gör SiC till ett lämpligt material för de tuffa och krävande förhållandena inuti plasmaetsningssystem.

Det är värt att notera att designen och specifikationerna för fokusringar kan variera beroende på det specifika plasmaetsningssystemet och processkraven. VeTek Semiconductor optimerar formen, dimensionerna och ytegenskaperna hos fokusringar för att säkerställa optimal etsningsprestanda och livslängd. Solid SiC används ofta för waferbärare, susceptorer, dummy wafer, styrringar, delar för etsningsprocess, CVD-process, etc.


Produktparameter för den fasta SiC Etching Focusing Ring

Fysikaliska egenskaper hos fast SiC
Densitet 3.21 g/cm3
Elektricitetsresistivitet 102 Ω/cm
Böjhållfasthet 590 MPa (6000 kgf/cm2)
Youngs modul 450 GPa (6000 kgf/mm2)
Vickers hårdhet 26 GPa (2650 kgf/mm2)
C.T.E. (RT-1000℃) 4.0 x10-6/K
Värmeledningsförmåga (RT) 250 W/mK


VeTek Semiconductor Production Shop


Hot Tags: Solid SiC Etching Focusing Ring, Kina, Tillverkare, Leverantör, Fabrik, Anpassad, Köp, Avancerad, Hållbar, Tillverkad i Kina
Relaterad kategori
Skicka förfrågan
Lämna gärna din förfrågan i formuläret nedan. Vi kommer att svara dig inom 24 timmar.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept