Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon

VeTek Semiconductor är en professionell tillverkare dedikerad till att tillhandahålla Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon. Våra produkter Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon är speciellt designade för SiC epitaxiella kammare och erbjuder överlägsen prestanda och kompatibilitet med olika utrustningsmodeller.

Funktioner:

Anslutning: VeTek Semiconductor Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon är utformad för att anslutas till kvartsrör, vilket underlättar gasflödet för att driva rotationen av bärarbasen.

Temperaturkontroll: Produkten möjliggör temperaturkontroll, vilket säkerställer optimala förhållanden i reaktionskammaren.

Non-Contact Design: Installerad inuti reaktionskammaren, vår Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon kommer inte i direkt kontakt med wafers, vilket säkerställer processens integritet.

Applikationsscenario:

Vår Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon fungerar som en kritisk komponent i SiC epitaxiella kammare, där den hjälper till att hålla föroreningshalten under 5 ppm. Genom att noggrant övervaka parametrar som tjocklek och likformighet av dopningskoncentration säkerställer vi epitaxiella skikt av högsta kvalitet.

Kompatibilitet:

VeTek Semiconductors Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon är kompatibel med ett brett utbud av utrustningsmodeller, inklusive LPE, NAURA, JSG, CETC, NASO TECH, och så vidare.

Vi inbjuder dig att besöka vår fabrik i Kina för att utforska vår högkvalitativa Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon i första hand.

Grundläggande fysikaliska egenskaper för CVD SiC-beläggning:

VeTek Semiconductor Production Shop

Översikt över halvledarchipets epitaxiindustrikedja: