CVD TAC beläggning

CVD TaC Coating (kemisk ångavsättning tantalkarbidbeläggning) är en beläggningsprodukt huvudsakligen sammansatt av tantalkarbid (TaC). TaC-beläggning har extremt hög hårdhet, slitstyrka och hög temperaturbeständighet, vilket gör den till ett idealiskt val för att skydda viktiga utrustningskomponenter och förbättra processtillförlitligheten. Det är ett oumbärligt material i halvledarbearbetning.

CVD TaC Coating-produkter används vanligtvis i reaktionskammare, waferbärare och etsningsutrustning och spelar följande nyckelroller i dem.

CVD TaC-beläggning används ofta för inre komponenter i reaktionskammare som substrat, väggpaneler och värmeelement. I kombination med dess utmärkta högtemperaturbeständighet kan den effektivt motstå erosion av hög temperatur, korrosiva gaser och plasma, och förlänger därigenom effektivt utrustningens livslängd och säkerställer processens stabilitet och produktproduktionens renhet.

Dessutom har TaC-belagda waferbärare (såsom kvartsbåtar, fixturer etc.) också utmärkt värmebeständighet och kemisk korrosionsbeständighet. Waferbäraren kan ge tillförlitligt stöd för wafern vid höga temperaturer, förhindra waferkontamination och deformation och därmed förbättra det totala chiputbytet.

Dessutom används VeTek Semiconductors TaC-beläggning i stor utsträckning i olika etsnings- och tunnfilmsavsättningsutrustningar, såsom plasmaetsare, kemiska ångavsättningssystem, etc. I dessa processsystem kan CVD TAC Coating motstå högenergijonbombardement och starka kemiska reaktioner , vilket säkerställer processens noggrannhet och repeterbarhet.

Oavsett dina specifika krav kommer vi att matcha den bästa lösningen för dina CVD TAC-beläggningsbehov och ser fram emot din konsultation när som helst.

Grundläggande fysiska egenskaper för CVD TAC-beläggning:

VeTek Semiconductor CVD TAC Coating produkter butiker:

Översikt över halvledarchipets epitaxiindustrikedja: