> Nyheter > industri nyheter

industri nyheter

Vad är skillnaden mellan epitaxi och ALD?

Huvudskillnaden mellan epitaxi och atomskiktsavsättning (ALD) ligger i deras filmtillväxtmekanismer och driftsförhållanden. Epitaxi hänvisar till processen att odla en kristallin tunn film på ett kristallint substrat med ett specifikt orienteringsförhållande, som bibehåller samma eller liknande kris......

Läs mer

Vad är CVD TAC Coating?

CVD TAC-beläggning är en process för att bilda en tät och hållbar beläggning på ett substrat (grafit). Denna metod involverar avsättning av TaC på substratytan vid höga temperaturer, vilket resulterar i en tantalkarbid (TaC) beläggning med utmärkt termisk stabilitet och kemisk beständighet.

Läs mer

Rulla upp! Två stora tillverkare är på väg att masstillverka 8-tums kiselkarbid

När 8-tums kiselkarbidprocessen (SiC) mognar, accelererar tillverkarna övergången från 6-tums till 8-tums. Nyligen tillkännagav ON Semiconductor och Resonac uppdateringar om 8-tums SiC-produktion.

Läs mer

Italiens LPE:s 200 mm SiC epitaxial teknologi framsteg

Den här artikeln introducerar den senaste utvecklingen i den nydesignade PE1O8 varmväggs-CVD-reaktorn från det italienska företaget LPE och dess förmåga att utföra enhetlig 4H-SiC-epitaxi på 200 mm SiC.

Läs mer

Termisk fältdesign för SiC Single Crystal Growth

Med den växande efterfrågan på SiC-material inom kraftelektronik, optoelektronik och andra områden kommer utvecklingen av SiC-enkristalltillväxtteknologi att bli ett nyckelområde för vetenskaplig och teknisk innovation. Som kärnan i SiC enkristalltillväxtutrustning kommer termisk fältdesign att fort......

Läs mer

Chiptillverkning: Ett processflöde av MOSFET

Chiptillverkningsprocessen inkluderar fotolitografi, etsning, diffusion, tunnfilm, jonimplantation, kemisk mekanisk polering, rengöring, etc. Den här artikeln förklarar ungefär hur dessa processer integreras i sekvens för att tillverka en MOSFET.

Läs mer

<...5 6 7 8 9...10 >