Vad är CVD TAC Coating?

Som vi alla vet,TaChar en smältpunkt på upp till 3880°C, hög mekanisk hållfasthet, hårdhet, värmechockbeständighet; god kemisk tröghet och termisk stabilitet mot ammoniak, väte, kiselhaltig ånga vid höga temperaturer.

CVD TAC beläggning, kemisk ångavsättning (CVD) avtantalkarbid (TaC) beläggning, är en process för att bilda en högdensitet och hållbar beläggning på ett substrat (vanligtvis grafit). Denna metod innebär avsättning av TaC på ytan av substratet vid höga temperaturer, vilket resulterar i en beläggning med utmärkt termisk stabilitet och kemisk beständighet.

De främsta fördelarna med CVD TaC-beläggningar inkluderar:

Extremt hög termisk stabilitet: tål temperaturer över 2200°C.

Kemisk beständighet: kan effektivt motstå starka kemikalier som väte, ammoniak och kiselånga.

Stark vidhäftning: ger långvarigt skydd utan delaminering.

Hög renhet: minimerar föroreningar, vilket gör den idealisk för halvledarapplikationer.

Dessa beläggningar är särskilt lämpliga för miljöer som kräver hög hållbarhet och motståndskraft mot extrema förhållanden, såsom halvledartillverkning och industriella processer med hög temperatur.

Inom industriell produktion är det mycket sannolikt att grafitmaterial (kol-kolkomposit) belagda med TaC-beläggning ersätter traditionell högren grafit, pBN-beläggning, SiC-beläggningsdelar, etc. Dessutom, inom flyg- och rymdområdet, har TaC stor potential att användas som en högtemperatur-antioxidations- och anti-ablationsbeläggning, och har breda tillämpningsmöjligheter. Det finns dock fortfarande många utmaningar för att uppnå beredningen av tät, enhetlig, icke flagnande TaC-beläggning på ytan av grafit och främja industriell massproduktion.

I denna process är det avgörande att utforska skyddsmekanismen för beläggningen, förnya produktionsprocessen och konkurrera med den högsta utländska nivån för tredje generationens halvledarkristalltillväxt och epitaxi.