TaC Beläggning Rotationsplatta

VeTek Semiconductors TaC Coating Rotation Plate har en enastående TaC-beläggning, med sin exceptionella TaC-beläggning, TaC Coating Rotation Plate har en anmärkningsvärd hög temperaturbeständighet och kemisk tröghet, som skiljer den från traditionella lösningar. Vi är angelägna om att tillhandahålla kvalitetsprodukter till konkurrenskraftiga produkter priser och ser fram emot att vara din långsiktiga partner i Kina.

Skicka förfrågan

Produktbeskrivning

VeTek Semiconductors TaC-beläggningsrotationsplatta har en sammansättning med hög renhet, en föroreningshalt på mindre än 5 ppm och en tät och enhetlig struktur, som används allmänt i LPE EPI-system, Aixtron-system, Nuflare-system, TEL CVD-system, VEECO-system, TSI system.

Utmärkta mekaniska egenskaper:

Beläggningshårdhet upp till 2300HV, med utmärkt slitstyrka.

Vidhäftningen mellan beläggningen och underlaget är stark och det är inte lätt att falla av eller skala.

Beläggningen kan fortfarande bibehålla god strukturell stabilitet vid hög temperatur.

Utmärkt korrosionsbeständighet:

TaC-materialet i sig har utmärkt kemisk stabilitet och korrosionsbeständighet.

VeTek semiconductors beläggningar fungerar bra i en mängd aggressiva gasmiljöer.

Kan effektivt skydda utrustningens inre komponenter från korrosionsskador.

Hög ytfinish:

VeTek semiconductor använder en exakt beläggningsprocess för att producera den önskade finishen.

Låg ytråhet hjälper till att minska partikelackumulering och avsättning.

Beläggningens konsistens är bra:

VeTek Semiconductor har ett ljudkvalitetskontrollsystem för att säkerställa konsekvent prestanda mellan batcherna.

Beläggningens tjocklek är jämnt fördelad och det finns inga uppenbara lokala defekter.

Utmärkt praktisk applikationsprestanda:

VeTek semiconductors TaC-beläggning används i stor utsträckning i många välkända tillverkare av epitaxialutrustning hemma och utomlands.

Produktparameter för den TaC-belagda rotationsplattan:

Fysiska egenskaper hos TaC-beläggning
Densitet	14,3 (g/cm³)
Specifik emissionsförmåga	0.3
Termisk expansionskoefficient	6,3 10-6/K
Hårdhet (HK)	2000 HK
Motstånd	1×10-5 Ohm*cm
Termisk stabilitet	<2500℃
Grafitstorleken ändras	-10~-20um
Beläggningstjocklek	≥20um typiskt värde (35um±10um)