kiselkarbid keramisk beläggning grafitvärmare

VeTek Semiconductor Kiselkarbid keramisk beläggning grafitvärmarekombinerar den utmärkta elektriska och termiska ledningsförmågan hos grafit med den höga temperaturbeständigheten, korrosionsbeständigheten och slitstyrkan hos keramisk kiselkolbeläggning och är designad för tuffa miljöer för tillverkning av halvledartillverkning. 

Kiselkarbid keramisk beläggning grafitvärmareanvänds huvudsakligen i vakuumbeläggningsutrustning (avdunstning), och de vanligaste metoderna är PCD (Plasma Chemical Drying) och PVD (Physical vapor deposition). Denna produkt har spelat en viktig roll för att främja tekniska framsteg och förbättra produktionseffektiviteten inom halvledarindustrin.Vi ser verkligen fram emot ytterligare samarbete med dig.

Materialet och strukturella egenskaperna hos kiselkarbid keramisk beläggning grafitvärmare är som följer:

Grafitsubstrat: Grafit är känt för sin höga värmeledningsförmåga och låga värmeutvidgningskoefficient. Den kan reagera snabbt på temperaturförändringar och bibehålla strukturell stabilitet vid höga temperaturer.

Silikonkol keramisk beläggning: SiC-beläggning är jämnt belagd på grafitytan genom kemisk ångavsättning eller andra avancerade processer. SiC har extremt hög hårdhet och kemisk korrosionsbeständighet, vilket kan skydda grafitsubstratet från högtemperaturoxidation och korrosiva miljöer.

Den speciella produktens strukturella design av kiselkarbid keramisk beläggning grafitvärmare avgörde oersättliga produktfördelarna med denna produkt i halvledarbearbetningsprocessen:

Effektiv och enhetlig uppvärmning:

Värmeledningsförmåga: Den höga värmeledningsförmågan hos grafit gör att värmaren snabbt kan nå och bibehålla den erforderliga temperaturen, och SiC-beläggningen säkerställer en jämn värmefördelning. Detta är särskilt viktigt för halvledarprocesser som kräver exakt temperaturkontroll, såsom snabb termisk bearbetning (RTP) och kemisk ångavsättning (CVD).

Temperaturens enhetlighet: Genom enhetlig värmefördelning kan Silicon Carbide Ceramic Coating Graphite Heater effektivt minska termisk stress och temperaturgradient, vilket säkerställer konsistensen och kvalitetsstabiliteten hos halvledarwafers under hela uppvärmningsprocessen.

Anti-korrosionsskydd:

Kemisk beständighet: SiC-beläggningens kemiska korrosionsbeständighet gör att värmaren kan arbeta stabilt och under lång tid i korrosiva gas- och kemiska miljöer, vilket undviker skador på grafitsubstratet. Denna egenskap är särskilt kritisk i processer som kemisk ångavsättning (CVD) och plasmaförstärkt kemisk ångdeposition (PECVD).

Oxidationsbeständighet: Vid höga temperaturer kan SiC-beläggning förhindra oxidation av grafitsubstratet, förlänga värmarens livslängd och minska frekvensen och kostnaderna för underhåll av utrustning.

Minska partikelkontamination:

Ytstabilitet: SiC-beläggning är inte bara slitstark, utan förhindrar också att partiklar faller av materialytan på grund av termisk cykling eller kemiska reaktioner, vilket minskar risken för partikelkontamination som kan uppstå under halvledartillverkning och säkerställer en hög ren processmiljö.

Förbättra processtillförlitlighet och effektivitet:

Design med lång livslängd: På grund av kombinationen av den mekaniska styrkan hos grafit och slitstyrkan hos SiC-beläggning, kan Silicon Carbide Ceramic Coating Graphite Heater upprätthålla högeffektiv drift under lång tid under hårda processförhållanden, vilket avsevärt förbättrar utrustningens övergripande tillförlitlighet.

Effektivt energiutnyttjande: Den höga värmeledningsförmågan hos grafit och högtemperaturstabiliteten hos SiC-beläggningen gör att värmaren kan minska energiförbrukningen samtidigt som den förbättrar temperaturkontrollnoggrannheten, vilket förbättrar den totala effektiviteten av halvledarproduktion.

Grundläggande fysikaliska egenskaper hosKiselkarbid keramisk beläggning grafitvärmare:

VeTek SemiconductorKiselkarbid keramisk beläggning grafitvärmarebutiker:

Översikt över halvledarchipets epitaxiindustrikedja:

/annan-process