Hem > Produkter > Tantalkarbidbeläggning > SiC epitaxiprocess

Kina SiC epitaxiprocess Tillverkare, leverantör, fabrik

VeTek Semiconductors unika hårdmetallbeläggningar ger överlägset skydd för grafitdelar i SiC Epitaxy Process för bearbetning av krävande halvledar- och komposithalvledarmaterial. Resultatet är förlängd grafitkomponentlivslängd, bevarande av reaktionsstökiometri, hämning av föroreningsmigrering till epitaxi- och kristalltillväxtapplikationer, vilket resulterar i ökat utbyte och kvalitet.

Våra tantalkarbidbeläggningar (TaC) skyddar kritiska ugns- och reaktorkomponenter vid höga temperaturer (upp till 2200°C) från het ammoniak, väte, kiselångor och smälta metaller. VeTek Semiconductor har ett brett utbud av grafitbearbetnings- och mätmöjligheter för att möta dina skräddarsydda krav, så vi kan erbjuda en avgiftsbelagd beläggning eller fullservice, med vårt team av expertingenjörer redo att designa rätt lösning för dig och din specifika applikation .

Sammansatta halvledarkristaller

VeTek Semiconductor kan tillhandahålla speciella TaC-beläggningar för olika komponenter och bärare. Genom VeTek Semiconductors branschledande beläggningsprocess kan TaC-beläggningen erhålla hög renhet, hög temperaturstabilitet och hög kemisk beständighet, och därigenom förbättra produktkvaliteten på kristalltaC/GaN)- och Epl-skikt och förlänga livslängden för kritiska reaktorkomponenter.

Värmeisolatorer

SiC, GaN och AlN kristalltillväxtkomponenter inklusive deglar, fröhållare, deflektorer och filter. Industriella sammansättningar inklusive resistiva värmeelement, munstycken, skärmningsringar och hårdlödningsfixturer, GaN och SiC epitaxiella CVD-reaktorkomponenter inklusive waferbärare, satellitbrickor, duschmunstycken, mössor och piedestaler, MOCVD-komponenter.


Syfte:

LED (Light Emitting Diode) Wafer Carrier

ALD(halvledare) mottagare

EPI-receptor (SiC-epitaxiprocess)


Jämförelse av SiC-beläggning och TaC-beläggning:

Sic TaC
Huvuddrag Ultrahög renhet, utmärkt plasmaresistens Utmärkt hög temperatur stabilitet (hög temperatur processöverensstämmelse)
Renhet >99,9999 % >99,9999 %
Densitet (g/cm 3) 3.21 15
Hårdhet (kg/mm ​​2) 2900-3300 6,7-7,2
Resistivitet [Ωcm] 0,1-15 000 <1
Värmeledningsförmåga (W/m-K) 200-360 22
Termisk expansionskoefficient (10-6/℃) 4,5-5 6.3
Ansökan Halvledarutrustning Keramisk jigg (fokusring, duschhuvud, dummy wafer) SiC Enkristalltillväxt, Epi, UV LED Utrustningsdelar


View as  
 
Tantalkarbidbelagd halvmånedel för LPE

Tantalkarbidbelagd halvmånedel för LPE

VeTek Semiconductor är en storskalig tantalkarbidbelagd Halfmoon Part för LPE-tillverkare och innovatör i Kina. Vi har varit specialiserade på TaC-beläggning i många år. Våra produkter tål temperaturer över 2000 grader Celsius, förlänger livslängden för förbrukningsvaror. Vi ser fram emot att bli din långsiktiga partner i Kina.

Läs merSkicka förfrågan
Tantalkarbidbelagd planetrotationsskiva

Tantalkarbidbelagd planetrotationsskiva

VeTek Semiconductor är en ledande tillverkare och innovatör av tantalkarbidbelagda planetariska rotationsskivor i Kina. Vi har varit specialiserade på keramisk beläggning i många år. Våra produkter har en hög renhet och hög temperaturbeständighet. Vi ser fram emot att bli din långsiktiga partner inom Kina.

Läs merSkicka förfrågan
<...34567>
Som en professionell SiC epitaxiprocess tillverkare och leverantör i Kina har vi vår egen fabrik. Oavsett om du behöver anpassade tjänster för att möta de specifika behoven i din region eller vill köpa avancerade och hållbara SiC epitaxiprocess tillverkade i Kina kan du lämna ett meddelande till oss.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept